這幾天，關(guān)于光刻的迷惑性傳言又來了。

事情圍繞 EUV而起，傳聞?wù)邔⑵浒b的“有鼻子有眼”，大概意思就是有總比沒有強(qiáng)。發(fā)酵愈深，傳聞?dòng)鷳摇?/span>

這也引發(fā)EEworld壇友的激辯，這種方案就好比1000米精度的狙擊槍，我們做出999米的槍管子，并且一個(gè)光刻工廠什么長度的光都有。雖然想象力豐富，但仍然難辨真假。（如果有任何其它想法與工程師溝通，可移步EEWorld原貼進(jìn)行討論：http://bbs./thread-1256513-1-1.html）

 EUV，在歷史中勝出 

為什么EUV光刻這么被大家所關(guān)注？對(duì)一顆芯片來說，光刻是制造過程中最重要、最復(fù)雜也最昂貴的工藝步驟，其成本占總生產(chǎn)成本30%以上，占據(jù)將近50%的生產(chǎn)周期。

不止如此，卡中國脖子的設(shè)備有很多，但光刻機(jī)是國產(chǎn)化率一直成長最慢的一個(gè)。

對(duì)芯片來說，5nm以后就必須使用EUV光刻機(jī)。這是因?yàn)?，?dāng)金屬間距縮小到30nm以下（對(duì)應(yīng)工藝節(jié)點(diǎn)超越5nm），光刻機(jī)的分辨率就不夠用了。

從公式“光刻機(jī)分辨率=k1*λ/NA”中，可以得知，NA越大，光刻機(jī)分辨率就越高，制程就越先進(jìn)。但NA孔徑并沒有那樣容易提升，所以光刻機(jī)就選擇了改變光源，用13.5nm的EUV光源取代193nm的DUV光源，就能大幅提升光刻機(jī)分辨率。不止如此，EUV還能能夠減少工藝步驟，提升良率。

EUV難在哪里？根據(jù)ASML官方信息，一臺(tái)EUV光刻系統(tǒng)，包括激光器、物鏡、光路系統(tǒng)、測試臺(tái)、曝光臺(tái)以及測量設(shè)備、減震裝置等多個(gè)部件，每個(gè)部件要求都極高，十分精密，且需要完美地配合，制造難度極高：

• 包含100000個(gè)零件，重約180噸；
• 需要40個(gè)貨運(yùn)集裝箱，通過20多輛卡車和3架貨機(jī)運(yùn)輸；
• EUV系統(tǒng)中使用的反射鏡需要非常平整，如果被放大成德國那么大，最大的凸起不到1毫米高；
• 通過發(fā)射高能激光至熔融錫滴上產(chǎn)生EUV光——這個(gè)過程每秒達(dá)50000次；
• EUV系統(tǒng)可以精確地控制光束，以至于相當(dāng)于從地球上照出手電筒并擊中放置在月球上的 50歐分硬幣；
• EUV系統(tǒng)包含一個(gè)重達(dá)7600公斤的大型真空室。

除了EUV，也不是沒有其它技術(shù)，全世界對(duì)光刻的研究一直都很積極，已經(jīng)足足有將近60年歷史，光刻技術(shù)也遠(yuǎn)比想象中要多。

雖然EUV并非通向先進(jìn)制程的唯一之路，但只是都沒那么好，或者太貴了，EUV仍然是現(xiàn)在最主要的方向。

對(duì)芯片行業(yè)來說，理想的光刻機(jī)技術(shù)應(yīng)該是成本較低、通量高、特征尺寸小、材料和基材獨(dú)立的。

而現(xiàn)在除了光學(xué)光刻，大部分光刻技術(shù)都不能滿足大規(guī)模生產(chǎn)需求，直寫光刻這種技術(shù)，一般又大多做掩模版或定制化芯片。

光學(xué)光刻等于是經(jīng)過歷史層層篩選，最終勝出的技術(shù)，并從紫外光刻技術(shù)（UV）、深紫外光刻技術(shù)（DUV）和極紫外光刻技術(shù)（EUV）不斷向前延伸，其波長也從436nm、365nm、248nm，不斷向193nm、13.5nm不斷延伸。

每個(gè)制程技術(shù)節(jié)點(diǎn)用什么光刻技術(shù)，IEEE一直都有所規(guī)劃，并且已經(jīng)持續(xù)數(shù)十年，它就是國際器件與系統(tǒng)路線圖（IRDS）。

根據(jù)路線圖規(guī)劃，極紫外光刻（EUV）、導(dǎo)向自組裝（DSA）和納米壓印光刻（NIL）是下一代納米制程節(jié)點(diǎn)的技術(shù)候選方案。不過，納米壓印光刻（NIL）目前還不能大規(guī)模生產(chǎn)，只是多用于一些小規(guī)模的芯片定制或是做掩模版。

那么， 我們?cè)撊绾慰创@件事呢？

首先，這項(xiàng)論文成果，一定是劃時(shí)代的，我們相信國產(chǎn)的力量正在變強(qiáng)。但相應(yīng)的，外界“添油加醋”的小道消息，并不可信，也可以說就是謠言。

這種方案并不是不可能，但又有一種破罐子破摔的感覺，正是這種模糊感，讓人感覺傳聞都是真的。

美國心理學(xué)家阿爾波特和波茲曼（Allport & Postman）曾在上個(gè)世紀(jì)40年代提出傳言傳播公式，即“傳言傳播機(jī)會(huì)=個(gè)人關(guān)注程度×事件證據(jù)模糊性“。也就是說，事件不確定性和滿足人們好奇心是關(guān)鍵，對(duì)于真相遠(yuǎn)沒有對(duì)自我立場、觀點(diǎn)佐證的需求重要，因此人們只愿意相信自己想要相信的東西。

對(duì)于市場信息，我們需要理性看待：

一方面，要考慮到技術(shù)實(shí)用化的問題。世界上，有著許多新型路線寫在論文之中，就比如量子計(jì)算、類腦計(jì)算，這些技術(shù)很好，砸大錢也不是不能實(shí)現(xiàn)，但缺乏商業(yè)實(shí)用化，所以連英特爾都只是說我們?cè)谘芯?，但正式推出要等到有市場。無論是投資機(jī)構(gòu)，還是國家力量，不會(huì)毫無理由地盲目投大錢。一切總歸要講商業(yè)邏輯，路要一步一個(gè)腳印地走。

另一方面，要考慮到技術(shù)實(shí)現(xiàn)的問題。光刻機(jī)不僅是吞金獸，還是吞電獸、吞水獸，這么大的機(jī)器要用多少電、用多少水、廢水怎么處理都是要看考慮的問題；光有一個(gè)EUV光源還不代表技術(shù)突破，掩模版、光刻膠、光刻系統(tǒng)建設(shè)都是需要考慮的問題；百般周折，最終生產(chǎn)良率和生產(chǎn)效率如何，如果不及預(yù)期，冒著風(fēng)險(xiǎn)造出這樣的機(jī)器，實(shí)用嗎？

EEworld論壇上，工程師認(rèn)為，感覺是一種方向，不過得考慮實(shí)用性，能做4nm但是產(chǎn)量慢，那沒啥意義呀，有工程師表示，俗話說，不看廣告，看療效?，F(xiàn)在還說不好，只能等過段時(shí)間再說。

在自媒體，我們每天都在突破光刻技術(shù)，每天都讓世界為之顫抖。我們相信未來一定會(huì)更好，但也沒必要有了來之不易的論文成果，就大吹特吹，不考慮現(xiàn)實(shí)問題。時(shí)間從來不語，卻會(huì)給出你想要的答案。

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