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一本論述極紫外光刻技術(shù)的最新專著 引進自國際光學(xué)工程學(xué)會（SPIE） ASML專家團隊傾力翻譯  點擊封面進入小程序即可購買~ [美]哈利·杰 萊文森 著 高偉民 譯 上海科學(xué)技術(shù)出版社 定價：128.00元 ISBN: 978-7-5478-5721-2 近年來全球陷入“缺芯”危機，直到現(xiàn)在仍在持續(xù)，并且缺芯已經(jīng)波及到了所有與芯片相關(guān)的產(chǎn)業(yè)。光刻工藝是芯片制造工藝中的一個重要步驟，光刻技術(shù)是迄今所能達到的最高精度的加工技術(shù)。光刻機也常被稱為“半導(dǎo)體工藝皇冠上的明珠”。極紫外光刻（extreme ultraviolet lithography，EUV）技術(shù)被稱為下一代光刻技術(shù)，它是7nm及以下芯片制造最核心的技術(shù)關(guān)鍵。  EUV全反射投影系統(tǒng) （圖片來源：ASML官網(wǎng)）  EUV每秒鐘激發(fā)50000次 （圖片來源：ASML官網(wǎng)） 內(nèi)容簡介 本書綜合地介紹了極紫外光刻技術(shù)相關(guān)的各個重要方面及其發(fā)展歷程，不僅論述了極紫外光源、極紫外光刻曝光系統(tǒng)、極紫外掩模板、極紫外光刻膠、極紫外計算光刻的技術(shù)內(nèi)容，而且還討論了極紫外光刻生態(tài)系統(tǒng)的其他重要方面。最后，本書還對滿足未來芯片工藝節(jié)點要求的極紫外光刻技術(shù)的發(fā)展方向進行了探討。 著譯者信息 1 作者信息  哈利·杰·萊文森 ?光刻界的泰斗級科學(xué)家，專注于光刻領(lǐng)域多年 ?國際光學(xué)工程學(xué)會（SPIE）會士，HJL Lithography的獨立光刻顧問和首席光刻師 ?擔(dān)任美國光刻技術(shù)工作組主席數(shù)年，參與制定了《國際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖》中有關(guān)光刻技術(shù)的章節(jié) ?硅谷首批SVG-5倍步進式光刻機的用戶之一，也是248nm、193nm和極紫外光刻的早期參與者 ?2022年，被SPIE授予弗里茨·澤爾尼克獎（Frits Zernike Award） 2 譯者信息  高偉民 ?資深的光刻技術(shù)專家 ?阿斯麥公司（ASML）中國區(qū)技術(shù)總監(jiān) ?曾任職于比利時微電子研發(fā)中心（IMEC）和美國新思科技（Synopsys） ?專注先進光刻技術(shù)研發(fā)20多年，擁有16年極紫外光刻技術(shù)研發(fā)的豐富經(jīng)驗 本書亮點 本書是一本論述極紫外光刻技術(shù)的最新專著，從內(nèi)容上看新穎又全面，從形式上看詳實又精煉。 時—— 一本非常及時且內(nèi)容豐富的芯片領(lǐng)域參考書 新—— 有關(guān)極紫外光刻技術(shù)許多最新的研發(fā)內(nèi)容都有所介紹和討論 ?！?聚焦極紫外光刻技術(shù)特點、要求和應(yīng)用 讀者對象 芯片制造、半導(dǎo)體設(shè)備、光刻技術(shù)等相關(guān)方面的技術(shù)和管理人員 集成電路、微納電子、光電工程等專業(yè)本科生 短波光學(xué)、激光與物質(zhì)相互作用、激光等離子體、極紫外光輻射等領(lǐng)域的研究生和專業(yè)研究人員 目錄    左右滑動查看更多 試讀    左右滑動查看更多 圖書實拍
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