隨著中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,中國(guó)半導(dǎo)體材料市場(chǎng)一直穩(wěn)步成長(zhǎng),中國(guó)在2020年成為全球第二大半導(dǎo)體材料市場(chǎng),并將在2021年維持這一市場(chǎng)地位。根據(jù)SEMI的資料整理,晶圓制造材料中工藝化學(xué)品材料約占6%。 今年上半年,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體領(lǐng)域功能性化學(xué)材料市占率第一的供應(yīng)商上海新陽(yáng)半導(dǎo)體材料股份有限公司,實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn)同比增長(zhǎng)約3倍,晶圓制造用電鍍液及清洗液等超純化學(xué)產(chǎn)品營(yíng)業(yè)收入大幅增長(zhǎng)。 其中,上海新陽(yáng)承擔(dān)的國(guó)家科技專(zhuān)項(xiàng)原創(chuàng)產(chǎn)品、用于存儲(chǔ)器芯片的氮化硅蝕刻液已經(jīng)取得批量化訂單,累計(jì)收到訂單3000余萬(wàn)元,實(shí)現(xiàn)銷(xiāo)售1350余萬(wàn)元,打破了該產(chǎn)品一直以來(lái)被國(guó)外公司壟斷的狀況。與客戶(hù)合作開(kāi)發(fā)的下一代產(chǎn)品,也已進(jìn)入批量化測(cè)試階段,將持續(xù)聯(lián)合客戶(hù)共同開(kāi)發(fā)更高等級(jí)的蝕刻液產(chǎn)品。 據(jù)悉,上海新陽(yáng)是國(guó)內(nèi)唯一超純電鍍液供應(yīng)商,是半導(dǎo)體制造用芯片表面處理功能性化學(xué)品領(lǐng)軍企業(yè)之一,也是是存儲(chǔ)客戶(hù)的氮化硅蝕刻液產(chǎn)品的國(guó)內(nèi)獨(dú)家供貨商,現(xiàn)已實(shí)現(xiàn)電鍍、清洗、研磨、光刻膠四大產(chǎn)品線(xiàn)布局,多產(chǎn)品處于快速放量前期。 晶圓的刻蝕清洗 目前該公司是國(guó)內(nèi)唯一能夠滿(mǎn)足28-90nm晶圓制造技術(shù)節(jié)點(diǎn)的超純電鍍液供應(yīng)商和主流的清洗液供應(yīng)商,下游客戶(hù)覆蓋中芯、華虹、長(zhǎng)存、長(zhǎng)鑫等主流廠(chǎng)商,電鍍、清洗的超純產(chǎn)品合肥一期新產(chǎn)能1.5萬(wàn)噸/年,將于2022年初投產(chǎn),在供不應(yīng)求背景下,打開(kāi)公司產(chǎn)能瓶頸,超純產(chǎn)品有望實(shí)現(xiàn)快速增長(zhǎng)。 上海新陽(yáng)表示,在全球正面臨缺少芯片的困境下,市場(chǎng)對(duì)于芯片的需求空前旺盛,隨著下游客戶(hù)芯片產(chǎn)能的逐步擴(kuò)大,公司發(fā)行股份及債券募集資金的到位,能加速推進(jìn)公司光刻膠及其他芯片制造關(guān)鍵工藝材料的開(kāi)發(fā)及產(chǎn)業(yè)化,加快關(guān)鍵領(lǐng)域材料產(chǎn)品的進(jìn)口替代,解決國(guó)家迫切需求。 刻蝕工藝去除晶圓表面的特定區(qū)域,以沉積其它材料。 “干法”(等離子)刻蝕用于形成電路,而“濕法”刻蝕(使用化學(xué)浴)主要用于清潔晶圓。干法刻蝕是半導(dǎo)體制造中最常用的工藝之一,開(kāi)始刻蝕前,晶圓上會(huì)涂上一層光刻膠或硬掩膜(通常是氧化物或氮化物),然后在光刻時(shí)將電路圖形曝光在晶圓上。刻蝕只去除曝光圖形上的材料,在芯片工藝中,圖形化和刻蝕過(guò)程會(huì)重復(fù)進(jìn)行多次。 粉體圈整理 |
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