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??? ? ? ? 讓我們一起穿越時(shí)間的迷霧 觸摸價(jià)值與成長的溫度 半導(dǎo)體系列篇之光刻膠作者：貓叔 開篇前，貓叔也說個(gè)事兒，最近（hou）花園后臺(tái)不少粉絲反應(yīng)說沒收到文章推送，以為我是不是又搞起了捉迷藏。。。我自己個(gè)兒還納悶為啥這么好的文章居然沒人看？ 后來想想之前也遇到過類似的情況，當(dāng)初因?yàn)槟承┲匾臅?huì)議，導(dǎo)致各種限流，近期也是類似的情況，我想調(diào)查一下大家是不是經(jīng)常沒收到推送？有這種情況的話，留個(gè)言告知下我，我到時(shí)候看看有沒有補(bǔ)救的錯(cuò)失。 ? ? 好了，開始正題~ 最近大家都知道，貓叔每周會(huì)寫一篇關(guān)于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的系列研報(bào)，這里可能會(huì)有人說，最近的市場焦點(diǎn)不在這兒！也會(huì)有人說，這些標(biāo)的從來都是炒作之后一地雞毛的下場！ 不知道大家是否聽過這么一句話：“人棄我取，人取我與”？再舉個(gè)更直白的例子，半導(dǎo)體炒作的第一波和第二波之間發(fā)生了什么？ 好了，進(jìn)入正題，貓叔從全產(chǎn)業(yè)鏈到細(xì)分領(lǐng)域的角度，對之前的文章進(jìn)行了一個(gè)歸納，還沒有看過的朋友，可以點(diǎn)擊下方紅字進(jìn)行閱讀。 在上一篇《半導(dǎo)體上游材料之硅晶圓》我們知道，在晶圓的生產(chǎn)環(huán)節(jié)主要涉及7類半導(dǎo)體材料、化學(xué)品，每一類在半導(dǎo)體材料市場規(guī)模占比大致如下。 1. 硅晶圓：33%（已寫） 2. 特種氣體：17% 3. 掩膜版：15% 4. 超凈高純試劑：13% 5. 拋光液和拋光墊：7% 6. 光阻材料：7% 7. 濺射靶材：3%（已寫） 硅晶圓和靶材已經(jīng)講過，接下來要說的是光阻材料，也就是光刻膠。前兩天有一則新聞，不知大家有注意到?jīng)]？ ? ? 如果尚不了解什么是光刻膠，從這個(gè)新聞看可以有一個(gè)基礎(chǔ)判斷，極紫外光刻膠項(xiàng)目被列為國家科技重大專項(xiàng)，一是表明技術(shù)上有一定難度，二是政策鼓勵(lì)且支持光刻膠的自主研發(fā)。 1、必須要知道的基礎(chǔ)信息按照應(yīng)用領(lǐng)域，光刻膠有以下四個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域： ① 印制線路板（PCB）光刻膠 ② 液晶顯示屏（LCD）光刻膠 ③ 有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）光刻膠 ④ 半導(dǎo)體晶圓加工刻蝕用光刻膠 ? 今天，我們重點(diǎn)說的是半導(dǎo)體領(lǐng)域，在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，決定著芯片的最小特征尺寸，占芯片制造時(shí)間的40-50%。光刻膠是光刻工藝得以實(shí)現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。 半導(dǎo)體光刻膠隨著市場對半導(dǎo)體產(chǎn)品小型化、功能多樣化的要求，不斷通過縮短曝光波長提高極限分辨率，從而達(dá)到集成電路更高密度的集積。 隨著分辨率越來越高，光刻膠曝光波長不斷縮短，由紫外寬譜向以下方向轉(zhuǎn)移： ? ? ? 目前，半導(dǎo)體光刻膠按照硅晶圓加工工藝可分為三類： ? ① 6寸硅晶圓工藝用：主要包括i-line和g-line光阻材料 ② 8寸硅晶圓工藝用：主要包括i-line和KrF光阻材料 ③ 12寸硅晶圓工藝用：主要包括ArF光阻材料 貓叔已經(jīng)盡可能簡化了專業(yè)術(shù)語，留下的都是最重要的！也是判斷材料用處和技術(shù)含量高低的基礎(chǔ)。下面通過一個(gè)簡單的問題，來看看有沒有了解。 有兩則新聞“xxx公司投建436nm光刻膠項(xiàng)目”和“xxx公司投建193nm光刻膠項(xiàng)目”，你能知道它主要用在哪里么？哪個(gè)項(xiàng)目技術(shù)含量更高呢？ 2、市場格局光刻膠技術(shù)壁壘高，全球半導(dǎo)體行業(yè)中涉及光阻材料的核心技術(shù)主要被日本和美國企業(yè)所壟斷，合占市場份額達(dá)到95%。括日本的JSR、日本的信越化學(xué)工業(yè)、美國的SEMATECH、美國的IBM、韓國的東進(jìn)化學(xué)、日本的TOK、日本的住友化學(xué)等。 國內(nèi)光刻膠由中低端向高端逐步過度，國內(nèi)廠商已基本可以掌握g線（436nm）和i線(365nm)光刻膠技術(shù)，而KrF（248nm）和ArF(193nm)光刻膠核心技術(shù)主要被上述日本和美國企業(yè)所壟斷，KrF目前僅小批量在中芯國際通過驗(yàn)證，ArF尚在起步研發(fā)中。 ? 3、相關(guān)上市公司上市公司中有光刻膠相關(guān)業(yè)務(wù)的是：晶瑞股份、江化微、南大光電、上海新陽、容大感光。 ① 晶瑞股份 主要生產(chǎn)超凈高純試劑、光刻膠、功能性材料和鋰電池粘結(jié)劑四大類微電子化學(xué)品，應(yīng)用于半導(dǎo)體、光伏太陽能電池、LED、平板顯示和鋰電池五大下游行業(yè)。其中光刻膠業(yè)務(wù)占比為15%左右。 子公司蘇州瑞紅承接國家重大科技項(xiàng)目02專項(xiàng)“i線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”，率先在國內(nèi)實(shí)現(xiàn)i線光刻膠的量產(chǎn)，已通過中芯國際上線測試。 ② 江化微 主營產(chǎn)品為超凈高純試劑和光刻膠配套試劑，是國內(nèi)濕電子化學(xué)品龍頭企業(yè)。光刻膠配套試劑業(yè)務(wù)占比32%。目前光刻膠配套試劑年產(chǎn)能 1.26 萬噸，擴(kuò)建產(chǎn)能在2018 年逐步實(shí)現(xiàn)放量。 公司客戶包括中芯國際、長電科技、士蘭微、華潤微電子。 ③ 南大光電 參股北京科華微電子材料有限公司，進(jìn)入集成電路材料光刻膠領(lǐng)域。248nm光刻膠新品的開發(fā)和客戶認(rèn)證工作取得了一定的進(jìn)展。 193nm光刻膠及配套材料啟動(dòng)項(xiàng)目獲得國家02專項(xiàng)正式立項(xiàng)，項(xiàng)目年限為2017年1月至2020年12月，正在投建高端集成電路制造用193nm光刻膠材料以及配套關(guān)鍵材料的開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目。 ④ 容大感光 公司的光刻膠產(chǎn)品主要包括紫外線正膠、紫外線負(fù)膠兩種產(chǎn)品以及稀釋劑等配套化學(xué)品，主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體及集成電路等領(lǐng)域。 集成電路用i線正性光刻膠項(xiàng)目開發(fā)的系列產(chǎn)品已經(jīng)小批量產(chǎn)，在國內(nèi)6寸集成電路芯片制造領(lǐng)域成功應(yīng)用。 ⑤ 上海新陽 與合作方共同投資設(shè)立子公司開展 193nm(ArF)干法光刻膠研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目。計(jì)劃總投資 2億元人民幣，上海新陽出資 8000 萬元人民幣，占目標(biāo)公司股權(quán)的 80%；鄧海博士技術(shù)團(tuán)隊(duì)出資 2000萬元人民幣，占目標(biāo)公司股權(quán)的 20%。 鄧海博士是當(dāng)年intel開發(fā)銅互連90nm時(shí)，鋁轉(zhuǎn)銅，光刻機(jī)制程升級時(shí)，光刻膠研發(fā)成員之一，是全球最早涉足193nm光刻膠技術(shù)的人員。 通過上面各自在光刻膠領(lǐng)域簡單的描述，相信大家也有了初步的判斷，誰正宗，誰暫時(shí)蹭蹭概念，誰在研發(fā)技術(shù)含量較高的產(chǎn)品未來需要關(guān)注進(jìn)展的~ |
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