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為何手機“內(nèi)存”比電腦的要大得多?看完這篇就懂了

 楚科奇0118 2020-06-16

  出品 | 網(wǎng)易新聞

  作者 | 之遙科普,清華大學專業(yè)科普團隊

  隨著科技的發(fā)展,手機、電腦等電子設備早已成為了我們生活中不可缺少的一部分。在購買手機或者電腦時,我們通常對一個參數(shù)十分關心,那就是“內(nèi)存”。

  如果比較手機和電腦的“內(nèi)存”大小,便會發(fā)現(xiàn)一個問題:手機的“內(nèi)存”往往是128G、256G或者512G,而電腦的內(nèi)存僅有8G或16G。

  為什么手機的內(nèi)存比電腦大這么多呢?這就要提到我們今天要講的主角——閃存。

  

  (一)閃存究竟是什么?

  實際上,我們對于手機的“內(nèi)存”這一叫法是有錯誤的,我們所說的手機“內(nèi)存”的真名就是閃存,而與電腦內(nèi)存相應的,手機的真正內(nèi)存是手機的“運行內(nèi)存”。在電腦中和我們所謂的手機“內(nèi)存”等價的參數(shù)應該是硬盤容量。

  內(nèi)存和閃存是兩種不同的儲存器,內(nèi)存為DRAM(Dynamic RandomAccess Memory),它只能把數(shù)據(jù)保存很短的時間,一旦斷電了,其中的數(shù)據(jù)就會消失,因為這一特性的存在,內(nèi)存被歸為易失型儲存器。而閃存和磁盤屬于與之對應的非易失型儲存器,這類儲存器的特點便是斷電時數(shù)據(jù)也不會丟失,可以用來進行數(shù)據(jù)的儲存和運輸。

  那磁盤和閃存又有什么差別呢?

  

 ?。ù疟P 圖源:博客園)

  從上圖中我們可以看到,磁盤是在一個圓形盤面上儲存數(shù)據(jù),依靠上方的讀寫頭進行讀寫,這就讓磁盤有了不可彌補的缺點——體積大,讀寫速度慢。由于磁盤盤面旋轉和讀寫頭的機械結構是不能移除的(因為這個機械結構,磁盤也被稱為機械硬盤),數(shù)據(jù)的讀寫也需要讀寫頭移動到數(shù)據(jù)存儲的區(qū)域。

  而閃存直接利用集成電路進行數(shù)據(jù)的讀寫與尋址,相比磁盤讀寫速度有了數(shù)量級上的提升,體積也大大減小(因為沒有機械結構,不使用旋轉的盤面,閃存也被稱為固態(tài)硬盤)。

  

 ?。ㄩW存 圖源:IT168)

  而我們手機說的“內(nèi)存”,就是上面右圖的這種“閃存”。

  對于電腦,磁盤的大體積還可以容忍,但對于手機,磁盤的體積無疑是致命的??梢赃@樣說,沒有閃存,便沒有如今發(fā)達的手機行業(yè)。閃存也因此成為與內(nèi)存和CPU并列的半導體三大產(chǎn)業(yè)之一。

  (二)閃存中的信息是如何儲存的?

  前文我們提到了閃存的重要性,在這里我為大家說明一下閃存儲存數(shù)據(jù)的原理。我們知道,計算機的所有數(shù)據(jù)都是一個由0和1組成的串,閃存便是一個用電信號儲存0,1串的陣列。

  

  (閃存的存儲單元 圖源:維基百科)

  閃存的結構與mosfet(金屬氧化物半導體場效應管)相似,都由柵極和溝槽組成。與mosfet不同的是,閃存的存儲單元有兩個柵極:在上面的控制柵CG和下方的浮動柵FG,F(xiàn)G與下方溝槽由氧化物絕緣層隔離,這讓進入FG中的電子無法逃離。因為這一特性,F(xiàn)G便能用來儲存信息。在FG捕獲了電子時,因為電子帶負電,F(xiàn)G中電子的電場便會抵消上方控制柵的電場,使得溝槽中的電流減少,這就代表了比特位0。在FG處于初始狀態(tài)時也就是沒有捕獲電子時,電流便會正常流經(jīng)下方的溝槽,這就代表比特位1。

  上面我們提到,F(xiàn)G和周圍是絕緣的,這也是它能保有電子的原因。但是這也帶來了一個問題:我們該如何把電子送過絕緣層,存入FG中呢?

  能實現(xiàn)這一點,是量子力學的功勞。量子力學允許高能粒子越過勢壘,這就是量子隧穿效應。把這個行為類比一下,在我們的常識中,我們就算跑的再快、跳的再高,也無法越過一個高墻;但是對于電子,只要它跑得足夠快,量子力學就會給它穿墻而過的可能。

  絕緣層對于電子來說,就算那道墻。給電子電壓,就算給電子加速,也就是說,只要我們給絕緣層的兩端加上足夠大的電壓,就會有一部分電子能夠越過絕緣層??刂齐妷旱姆较颍湍芸刂艶G中電子的流入流出,實現(xiàn)對閃存的寫入。

  (三)閃存是是如何生產(chǎn)的?

  有了閃存的存儲單元,我們便能很自然的把閃存排成一個陣列。

  

 ?。∟AND閃存陣列的一個行 圖源:維基百科)

  然后我們把這樣一個又一個陣列摞起來,就算我們現(xiàn)在應用的閃存的結構了,也就是3D NAND 閃存。

  

 ?。?D NAND 橫截面圖 圖源:https://www.)

  我們所說的閃存是多少層,便是閃存“片”摞列的層數(shù)。理所當然的,層數(shù)越多,閃存能儲存的信息也就越多。但是把層數(shù)越做越多也有一個問題,那就是閃存不僅需要這里的“閃存片”,還需要外部電路來讀寫閃存中的內(nèi)容。多層結構勢必會導致電路的復雜、冗余;極大地降低閃存的讀寫速度和可靠性,這就是閃存制造的難點之一。

  今年4月,長江儲存宣布他們研發(fā)成功了全球首款128層QLC存儲芯片,本次的技術突破,便是提出了上面這個問題的一種解決辦法:Xtacking技術。

  

  對于Xtacking技術,可以參考下面這個概括性介紹視頻:

  

 ?。ㄒ曨l來源:長江存儲官網(wǎng))

  總結來說,Xtacking技術就是把外圍電路(periphery)和存儲陣列(cell array)分成單獨的晶圓上分別制造,然后再把它們面對面的“釘”起來(tacking) 。這樣,就把外部電路與存儲陣列的關系由平面堆積變?yōu)榱丝v向堆積。以此省下了面積,簡化了電路,獲得了更高的存儲密度,同時讀寫速度也獲得了提升,這為長江存儲制作128層存儲提供了可能。

  雖然說起來容易理解,但是這種新構型帶來的挑戰(zhàn)也是巨大的。更大的互聯(lián)電阻、電路之間的overlay匹配性、對接表面的縱向起伏、長期使用的可靠性等等問題都是科研人員需要面對的。這次量產(chǎn)成功,也說明了這些問題在研究人員手里已經(jīng)得到了解決,在如此短的時間里實現(xiàn)如此大的突破也說明了Xtacking構型的潛力,期待著Xtacking構型在下一代存儲器中的表現(xiàn)。

  (四)128層三維閃存突破的意義

  中國是半導體的最大消費國,消耗了全世界芯片產(chǎn)量的45%,但是與中國巨大的半導體消費量不相稱的是中國在半導體生產(chǎn)方面的疲軟。超過90%的芯片消耗依賴進口。

  半導體產(chǎn)業(yè)的最大消費品有三類:logic,也就是中央處理器,我們所說的CPU;DRAM就是我們上文中提到的內(nèi)存;NAND,也就是閃存。在這三個領域,中國都面臨著行業(yè)起步晚,國產(chǎn)芯片投產(chǎn)落后的窘境。

  在logic產(chǎn)業(yè),inter,IBM等公司已經(jīng)將CPU的制程降低到了under 7nm的水平,而中國的國產(chǎn)CPU還在14nm的水平摸爬滾打。DRAM和NAND行業(yè)不僅是技術的比拼,更是成本搏殺的紅海,國產(chǎn)DRAM與NAND是真正的“做一片虧一片”。

  而芯片對于國家安全的重要性不言而喻,如果中國沒有自主的芯片生產(chǎn)技術,芯片的安全性永遠得不到保障。發(fā)展本土芯片產(chǎn)業(yè)、突破西方對中國的科技封鎖,刻不容緩。

  長江存儲本次實現(xiàn)量產(chǎn)的閃存芯片是為數(shù)不多的可以上市與西方半導體巨頭直接競爭的芯片之一,可以說是在半導體三大產(chǎn)業(yè)中,第一個“追平國外大廠”的產(chǎn)品,這對中國半導體產(chǎn)業(yè)的促進意義自不必多言。

  同時,長江存儲近幾年的技術飛速發(fā)展,證明了Xtacking技術的前瞻性和成熟度,為以后中國閃存行業(yè)的發(fā)展指出了一條切實可行高效的道路,在國產(chǎn)閃存發(fā)展的戰(zhàn)略層面也具有很大的意義。

  當然,中國閃存產(chǎn)業(yè)仍在奮起直追的路上,目前還不能過于自滿,但相信隨著以長江存儲為首的國產(chǎn)公司不斷發(fā)展進步,國產(chǎn)閃存在滿足國家的芯片安全需求的同時,也將在國際市場上占據(jù)一席之地。

  「了不起的中國制造」專欄,力邀行業(yè)權威、資深玩家,呈現(xiàn)他們眼中的中國創(chuàng)新之路。

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  編輯| 史文慧

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