來源:內(nèi)容來自「朱雷 戰(zhàn)略研究室 」上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 公眾號(hào):SIMIT戰(zhàn)略研究室,謝謝。 一 、簡介 UTBB-FD-SOI,簡稱FD-SOI,是一種基于兩大創(chuàng)新來實(shí)現(xiàn)平面晶體管結(jié)構(gòu)的工藝技術(shù):一是在體硅中引入了超薄的埋氧(BOX)層,作為絕緣層;二是用超薄的頂硅層制造出全耗盡的晶體管溝道。FD-SOI最大的特點(diǎn)是可以在無需全面改造設(shè)備結(jié)構(gòu)、完整性和生產(chǎn)流程的前提下實(shí)現(xiàn)摩爾定律下的芯片面積微縮、能耗節(jié)省、性能提升及功能拓展。FD-SOI晶體管的結(jié)構(gòu)如圖1所示。
圖1 FD-SOI晶體管示意圖和TEM截面圖 二、全球產(chǎn)業(yè)發(fā)展?fàn)顩r (1)技術(shù)瓶頸突破階段(2000~2011) FD-SOI技術(shù)是由伯克利的前任教授胡正明在2000年發(fā)明的。和體硅技術(shù)相比,F(xiàn)D-SOI可以實(shí)現(xiàn)對(duì)納米節(jié)點(diǎn)工藝制程下晶體管電流的有效控制和閾值電壓的靈活調(diào)控,因而21世紀(jì)伊始,以Leti、Soitec、STM為代表的歐洲半導(dǎo)體科研機(jī)構(gòu)和公司開始投入該技術(shù)的研發(fā)。
圖2 DIBL的減小量隨頂層硅和BOX厚度變化的關(guān)系 早期大量的電學(xué)仿真結(jié)果表明,同時(shí)減小FD-SOI襯底的BOX厚度和頂層硅厚度能夠降低晶體管的漏致勢(shì)壘降低(DIBL)程度(圖2);但是當(dāng)時(shí)市面上沒有商用的FD-SOI襯底,具有超薄頂硅、超薄BOX的晶體管結(jié)構(gòu)是通過Silicon-on-Nothing(SON)方法在體硅上首次實(shí)現(xiàn)的(圖3);2006年Soitec研發(fā)出滿足商用的高質(zhì)量FD-SOI襯底之后,STM聯(lián)合Leti、Soitec開發(fā)出基于28nm節(jié)點(diǎn)的FD-SOI晶體管,實(shí)現(xiàn)了真正的FD-SOI器件的制備(圖3)。從那時(shí)起,SOI技術(shù)的發(fā)展環(huán)境才得以日益改善。2007年SOI聯(lián)盟成立以來,越來越多的公司和機(jī)構(gòu)開始加入到推廣FD-SOI技術(shù)的隊(duì)伍中,從此,F(xiàn)D-SOI技術(shù)才開始走向商業(yè)化的道路。 總體上,早期的FD-SOI技術(shù)處于初期探索階段,取得了一定的關(guān)鍵技術(shù)突破,但沒有出現(xiàn)具有市場競爭力的產(chǎn)品,代表性的僅是Oki Electric采用FD-SOI技術(shù)開發(fā)出用于低功耗手表的微控制器;而同時(shí)代的Intel 于2011年推出了商業(yè)化的FinFET技術(shù),該技術(shù)大規(guī)模應(yīng)用于從Intel Core i7-3770之后的22nm級(jí)的高性能處理器產(chǎn)品中。之后TSMC采用FinFET技術(shù)也取得了巨大的成功,F(xiàn)D-SOI失去了占領(lǐng)市場的黃金時(shí)間窗口。彼時(shí)FD-SOI沒有形成具備商業(yè)性質(zhì)的產(chǎn)業(yè)鏈的瓶頸在于襯底的供應(yīng):高產(chǎn)能、高質(zhì)量的FD-SOI襯底制備技術(shù)仍不成熟;FD-SOI襯底的價(jià)格($400–$500)比體硅($130)高三到四倍,襯底成本因素也限制了FD-SOI的市場拓展。
圖3 STM及合作伙伴制備薄膜(頂硅和BOX)上晶體管方法的演進(jìn)過程 (2)產(chǎn)業(yè)鏈加速完善階段(2012~今) 從2012年開始,F(xiàn)D-SOI技術(shù)的生態(tài)系統(tǒng)在以下幾個(gè)方面逐步壯大。
圖4 Soitec FD-SOI襯底產(chǎn)品路線圖及產(chǎn)能計(jì)劃
圖5 不同工藝節(jié)點(diǎn)的柵極成本 作為行業(yè)三大襯底代工廠商之一,GF這幾年在推廣FD-SOI技術(shù)發(fā)展中起到舉足輕重的作用,其于2015年提出的基于22nm的FD-SOI代工平臺(tái)22FDX已經(jīng)獲得超過135家客戶的青睞,其中部分客戶已經(jīng)進(jìn)入多項(xiàng)目襯底(MPW)試產(chǎn)或正式投片?;?2FDX的成功,2016年,GF研發(fā)出新的12nm FD-SOI工藝技術(shù)12FDX,實(shí)現(xiàn)了業(yè)內(nèi)首個(gè)多節(jié)點(diǎn)FD-SOI路線圖。此外,為了加強(qiáng)22FDX SoC技術(shù)生態(tài)系統(tǒng)建設(shè)、縮短產(chǎn)品上市時(shí)間,GF推出新的合作伙伴項(xiàng)目,稱為FDX celerator,該項(xiàng)目現(xiàn)有35個(gè)合作伙伴,涵蓋半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上下游業(yè)者,包括:自動(dòng)化設(shè)計(jì)工具(EDA)、設(shè)計(jì)元素(IP)、平臺(tái) (ASIC)、引用方案(系統(tǒng)IP,引用型設(shè)計(jì))、資源(設(shè)計(jì)咨詢,服務(wù))、產(chǎn)品封裝和測試(OSAT)方案等廠商。FD-SOI制備工藝的成熟,促使GF不斷增大產(chǎn)能,以滿足全球客戶對(duì)22FDX的需求。在中國,GF和成都已宣布合資建造晶圓廠,計(jì)劃二期建造22FDX工藝生產(chǎn)線。另外,GF計(jì)劃到2020年將其位于德國德累斯頓的Fab 1工廠的產(chǎn)能擴(kuò)大40%。未來GF每年將擁有超過200萬個(gè)FD-SOI晶圓的產(chǎn)能。
圖6 FD-SOI產(chǎn)業(yè)鏈
圖7 FD-SOI產(chǎn)業(yè)發(fā)展里程碑事件 經(jīng)過近5年的發(fā)展,F(xiàn)D-SOI聯(lián)盟已經(jīng)在全球逐漸打造出完整的產(chǎn)業(yè)鏈(圖6),覆蓋應(yīng)用、IC設(shè)計(jì)、代工、封測、材料等各個(gè)環(huán)節(jié),具備了一定的產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)。FD-SOI產(chǎn)業(yè)鏈的建立得益于幾個(gè)里程碑的事件(圖7):①Soitec突破了高質(zhì)量襯底的技術(shù)瓶頸;②STM、GF等陸續(xù)建立了28nm、22nm及以下節(jié)點(diǎn)代工平臺(tái);③GF通過FDX Celerator項(xiàng)目吸引了眾多IC設(shè)計(jì)、EDA、IP等上游公司加入FD-SOI陣營。 (3)中國的FD-SOI產(chǎn)業(yè)鏈建設(shè)(2013~今) 為了實(shí)現(xiàn)本土半導(dǎo)體的彎道超車,中國從2013年就開始關(guān)注和布局FD-SOI技術(shù),為全球FD-SOI生態(tài)的建立做出了重要的貢獻(xiàn),具體事件包括:①2014年,上海新傲科技獲得了Soitec Smart-Cut技術(shù)授權(quán)。目前新傲科技已實(shí)現(xiàn)了8寸SOI襯底片量產(chǎn),未來計(jì)劃投資超過20億人民幣,利用二期工廠推出12寸FD-SOI產(chǎn)品;②上海NSIG在2016年宣布收購14.5%的Soitec股權(quán),促進(jìn)FD-SOI在中國的商業(yè)化;③GF 2017年宣布在成都興建12寸22FDX FD-SOI代工廠,并與成都市政府合作以6年時(shí)間建立一個(gè)累計(jì)投資規(guī)模超過1億美元的“世界級(jí)的FD-SOI生態(tài)系統(tǒng)”;④中國的瑞芯微、上海復(fù)旦微電子,以及湖南國科微較早前已經(jīng)宣布采用22nm FD-SOI工藝設(shè)計(jì)物聯(lián)網(wǎng)芯片等。 目前中國FD-SOI產(chǎn)業(yè)鏈布局已經(jīng)初具端倪;但是,襯底和代工廠尚未進(jìn)入規(guī)?;慨a(chǎn)階段,IC設(shè)計(jì)公司尚處在MPW的設(shè)計(jì)驗(yàn)證階段,并且客戶數(shù)量較少,仍無法支撐FD-SOI工藝的成熟。 三、市場預(yù)測 基于目前FD-SOI產(chǎn)業(yè)鏈的發(fā)展現(xiàn)狀,對(duì)FD-SOI產(chǎn)品的市場規(guī)模做了一個(gè)統(tǒng)計(jì),并對(duì)未來幾年的市場規(guī)模進(jìn)行預(yù)測。
圖8 FD-SOI產(chǎn)品潛在的市場規(guī)模(柱狀圖)和占全球半導(dǎo)體的市場份額(折線圖)預(yù)測 隨著未來物聯(lián)網(wǎng)、無線通信、汽車電子等對(duì)高性能、低功耗芯片需求的增長,未來幾年FD-SOI市場規(guī)模將會(huì)從2015年的0.7億美元增長到2020年的超過40億美元,年平均增長率為68%;從工藝節(jié)點(diǎn)來看,基于現(xiàn)有成熟的28nm和22nm節(jié)點(diǎn)的FD-SOI市場將維持穩(wěn)健的增長。到2020年,12nm節(jié)點(diǎn)以下的FD-SOI產(chǎn)品將貢獻(xiàn)一半的市場份額;從市占比看,F(xiàn)D-SOI在全球半導(dǎo)體的市場份額會(huì)從2015年的0.2%增長到2020年的接近10%。2017年之后先進(jìn)FD-SOI工藝平臺(tái)的建立以及產(chǎn)業(yè)鏈的逐漸完善等,促使FD-SOI市場發(fā)生跳躍式地激增。可見,未來FD-SOI技術(shù)市場前景可期。 |
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