1、 隧道光面爆破動態(tài)設(shè)計意義

(1)采用光面爆破施工對圍巖的擾動破壞較小，采用光面爆破時，圍巖松弛帶的范圍只是普通常規(guī)爆破方法的1/3～1/2，從而提高了圍巖的自穩(wěn)性，減少了支護工作量；

(2)光面爆破可以大大地減少隧道的超欠挖量，提高工程質(zhì)量，加快施工進度，并能大量減少混凝土量；

(3)采用光面爆破，圍巖的壁面平整、危石少，撬頂工作簡單，減輕了表面應(yīng)力集中現(xiàn)象，避免了局部冒落，增加了圍巖的穩(wěn)定和施工安全，并為錨噴支護的使用創(chuàng)造了有利條件。

2、影響光面爆破效果的因素

在山嶺隧道施工中均采用爆破開挖，光面爆破應(yīng)重視塑料導爆管非電起爆技術(shù)、掏槽眼爆破技術(shù)、周邊眼間隔裝藥技術(shù)、內(nèi)圈眼爆破層厚度確定、底板眼鉆爆要點。

（1）進行光面爆破時，一般都要引用光爆層這一概念。所謂光爆層，就是指周邊炮孔與最外層主爆孔之間的一圈巖石層，如圖所示。實際上，光爆層的厚度就是周邊孔（光爆孔）的最小抵抗線。 光爆層的厚度W與周邊孔的間距E有著密切的關(guān)系，可用兩者的比值K=E/W表示，K稱為周邊孔（光爆孔）的密集系數(shù)。K值小，表示炮孔間距近，巖體能較精確地沿炮孔連心線裂開，但鉆孔工作量增大，不一定經(jīng)濟。K值過大，各炮孔只能各自獨立地起作用，不能形成要求的光爆面，這也是不可取的，在現(xiàn)場施工時根據(jù)地質(zhì)情況。

（2）爆層的厚度與隧道開挖斷面的大小有關(guān)，大斷面隧道的頂拱跨度大，光爆孔所受到的夾制作用小，巖體比較容易崩落，此時，光爆層的厚度可以大一些。光爆層的厚度還與巖石的性質(zhì)和地質(zhì)構(gòu)造等因素有關(guān)，堅硬完整的巖石，光爆層宜薄一些，而松軟破碎的巖石，光爆層宜厚一些。

（3）光爆層的炸藥單耗比主爆孔要小得多。光爆孔間距也要比主爆孔的小，它與炮孔直徑、巖石性質(zhì)以及裝藥量等有關(guān)。當炮孔直徑為35～45mm時，間距一般可取500～700mm，在巖石節(jié)理裂隙發(fā)育的地區(qū)，或者對光爆面的質(zhì)量要求較高的部位，其孔距還應(yīng)更小一些。炮孔的裝藥量也隨之減少，或者在兩孔之間加一個不裝藥的導向孔，導向孔至裝藥孔的距離不宜大于40cm。

（4）在隧道開挖中，為了使隧道的開挖斷面不會愈挖愈小，周邊孔必須向外插，可能的最小的外插量取決于鉆機對周邊凈空的要求，一般為10～20cm，在設(shè)計計算中，這個外插量應(yīng)當計入光爆層的厚度，即光爆孔的最小抵抗線。

（5）均勻的光爆層是有效地實現(xiàn)光面爆破的一個主要環(huán)節(jié)，因此，在設(shè)計光面爆破時，應(yīng)對鄰近光爆層的主爆孔及其裝藥量給予充分的注意，特別是在地質(zhì)條件不太好的情況下，主爆孔爆破后，參差不齊的壁面將直接影響光面爆破的效果。此時，應(yīng)適當?shù)卣{(diào)整鄰近光爆層的主爆孔的布置和裝藥量。必要時，這一層主爆孔也可以按照光爆層的要求來布置，使之成為另一層光爆孔，只是裝藥量較多而已。

（6）裝藥結(jié)構(gòu)分為孔口堵塞段、正常裝藥段及孔底加強段三部分，堵塞段的長度一般可取炮孔深度的1/4～1/3，以保證爆破時氣體不過早地逸出，中間正常段的裝藥最好用小直徑藥卷連續(xù)裝藥，藥卷直徑小于臨界直徑時，可采用間隔裝藥，藥量不能太集中，應(yīng)適當分散，各藥卷之間的間隔距離也不宜過大。為了克服孔底部位的阻力，孔底應(yīng)放置1～2卷的標準藥卷，以增強其作用，使光爆層能夠比較容易地脫離巖體。

爆破振動安全允許振速

4、光面爆破質(zhì)量控制措施

1）針對隧道圍巖巖性、圍巖強度、完整性、節(jié)理裂隙發(fā)育等進行研究，并通過現(xiàn)場試驗調(diào)整光面爆破設(shè)計技術(shù)參數(shù)，總結(jié)經(jīng)驗成果，以選取合理的開挖方法，實行動態(tài)信息化管理，以降低成本投入，提高光面爆破（或控制爆破）效果。

（2）堅持 “多打眼，少裝藥”原則。動態(tài)調(diào)整控制爆破參數(shù)，尤其是周邊眼的間距、裝藥量，并控制好外插角角度，必要時可以在周邊眼間內(nèi)側(cè)增設(shè)跟眼（采用小藥卷）；

（3）動態(tài)調(diào)整鉆爆設(shè)計，加強技術(shù)、管理人員、作業(yè)工人培訓，加強現(xiàn)場監(jiān)控管理力度。

給大家附上一份專業(yè)的爆破記錄表：