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如何寫專利

 昵稱65403612 2022-04-08

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專利很容易,把專利寫的有水準(zhǔn)很難。

專利授權(quán)需具備三個屬性:新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性

一、專利種類

  • 發(fā)明專利

  • 實(shí)用新型專利

  • 外觀設(shè)計(jì)專利


二、專利組成部分

1. 說明書摘要

本發(fā)明的方案概述以及達(dá)到的技術(shù)效果,不超過300字。寫作套路就是把權(quán)利要求概括一下再增加一些技術(shù)效果,很簡單吧,這個一般寫完權(quán)利要求再寫。

2. 摘要附圖

本發(fā)明最具代表性的一張附圖,這個等你把說明書附圖都畫好了,從里面選一個最有代表性的應(yīng)該不是什么難事;

3. 權(quán)利要求書(最核心)

依照本發(fā)明方案具體來寫,一般分為若干獨(dú)立權(quán)利要求以及一系列的從屬權(quán)利要求

4. 說明書
  • 技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明所在的領(lǐng)域,寫過論文的都應(yīng)該知道怎么寫,專利里的技術(shù)領(lǐng)域可以概括的去寫,比如手機(jī)的技術(shù)領(lǐng)域是電子技術(shù)領(lǐng)域、數(shù)據(jù)傳輸方法為通信領(lǐng)域。

  • 背景技術(shù)
介紹一下該技術(shù)領(lǐng)域現(xiàn)在的發(fā)展?fàn)顩r以及遇到的問題
  • 發(fā)明內(nèi)容

把權(quán)利要求寫好之后copy一下粘貼過來,然后把每個權(quán)利要求中“其特征在于”之前的語句(包括其特征在于這幾個字)改成“可選地”,然后在最后另起一段說一下本發(fā)明的有益效果;

  • 具體實(shí)施方式

拿出一個具體的例子來解釋本發(fā)明的技術(shù)方案,專利中為何需要這一部分呢?具體實(shí)施方式就是要用人話把權(quán)利要求解釋清楚,在具體實(shí)施方式中,你可以把權(quán)利要求中的每一句話用日常用語解釋清楚,可以舉例說明也可以對權(quán)利要求中的一些用詞進(jìn)行詳細(xì)解釋,如果你把每個技術(shù)特征解釋完之后能再說一下采用該技術(shù)特征的優(yōu)勢,那你這個專利的具體實(shí)施方式就已經(jīng)堪稱完美了;

5. 附圖說明
說一下每個說明書附圖是想表示什么意思
6. 說明書附圖
為了能更清楚地解釋具體實(shí)施方式,可能你會畫幾個圖對應(yīng)著來說,也就是說你把寫具體實(shí)施方式的時候畫的幾張圖片放在這里

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三、撰寫專利

  • 前期工作:檢索

  1. 為了得到授權(quán),我們要保證在我們之前沒有人做過這樣的產(chǎn)品或者有這樣的想法。檢索也是一個收集模版的過程。當(dāng)檢索時,看到那些寫的思路比較好的專利,我們可以下載下來,建立文件夾,等后面自己去寫的就可以學(xué)習(xí)他們這樣的表述邏輯,以及本領(lǐng)域的相關(guān)專業(yè)名詞~
  2. 專利檢索網(wǎng)站:

1.知網(wǎng)

2.國家知識產(chǎn)權(quán)局

3.ainpat

4.rainpat

5.soopat

  • 中期工作:下載標(biāo)準(zhǔn)表格

  1. 下載地址:國家知識產(chǎn)權(quán)局、標(biāo)準(zhǔn)表格下載

  2. 五個文檔:

  1. 權(quán)利要求書

  2. 說明書

  3. 說明書摘要

  4. 說明書附圖

  5. 摘要附圖

后期工作:寫作階段
可能會有一點(diǎn)點(diǎn)長,耐心地看吧
  • 撰寫技巧
  1. 第一,應(yīng)當(dāng)考慮適當(dāng)?shù)谋Wo(hù)范圍。所謂“適當(dāng)”的保護(hù)范圍,是指在符合我國專利法及其實(shí)施細(xì)則的前提下,盡可能獲得較大的保護(hù)范圍。
    專利申請文件撰寫的過程是二次創(chuàng)造的過程,這個過程需要發(fā)明人、專利代理人等共同參與,討論解決發(fā)明創(chuàng)造涉及的技術(shù)問題的各種實(shí)施方式,將實(shí)施方式的技術(shù)特征進(jìn)行概括、抽象(上位概括或功能性限定)后確定權(quán)利要求。而上位概括也需要盡可能多的實(shí)施例以使得權(quán)利要求能夠得到說明書的支持。功能性特征在侵權(quán)判定時解釋為說明書中揭示的具體實(shí)施方式及其等同的實(shí)施方式,而等同規(guī)則的適用又容易存在異議,因此在專利申請文件撰寫階段挖掘盡可能多的實(shí)施方式有助于獲得更適當(dāng)?shù)谋Wo(hù)范圍。
  2. 第二,撰寫專利申請文件時也要從有利于侵權(quán)判定的角度考慮。例如基于全面覆蓋原則,在最初撰寫專利申請文件時只需將能夠解決本發(fā)明的技術(shù)問題的最必要的技術(shù)特征集寫入獨(dú)立權(quán)利要求中,非必要技術(shù)特征只會限制縮小保護(hù)范圍。實(shí)踐中,發(fā)明名稱、使用環(huán)境特征、以制備方法界定產(chǎn)品的技術(shù)特征、方法權(quán)利要求的步驟順序等均有可能限制縮小專利權(quán)的保護(hù)范圍,使用時需仔細(xì)斟酌。若權(quán)利要求中存在可能有歧義的術(shù)語而在說明書中未加解釋,都可能對后續(xù)權(quán)利要求的解釋造成障礙。
  3. 第三,應(yīng)當(dāng)考慮專利產(chǎn)品或方法的商業(yè)前景。在專利申請文件撰寫階段,專利代理人有可能在與發(fā)明人溝通過程中發(fā)現(xiàn)技術(shù)方案可以應(yīng)用于更有商業(yè)前景的領(lǐng)域。例如,一項(xiàng)技術(shù)方案可以用在PC端,但經(jīng)過對現(xiàn)有技術(shù)的了解,發(fā)現(xiàn)其應(yīng)用在移動端的前景十分可觀,但應(yīng)用在移動端需要對技術(shù)方案進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整,因此產(chǎn)生了不同的技術(shù)方案,此時就需要及時調(diào)整申請策略。
  4. 第四,應(yīng)當(dāng)考慮專利是否容易被競爭對手規(guī)避。專利代理人可以與申請人一起拓展可能的改進(jìn)技術(shù)方案以及可能的變劣技術(shù)方案,改進(jìn)的技術(shù)方案可以作為專利審查階段的“退路”,并且可能阻止競爭對手將改進(jìn)方案提交專利申請。根據(jù)北京市高級人民法院出臺的《專利侵權(quán)判定指南》,變劣技術(shù)方案不構(gòu)成等同侵權(quán),因此在撰寫專利申請文件時也應(yīng)對變劣技術(shù)方案一并考慮。
  5. 第五,應(yīng)當(dāng)考慮有利于取證維權(quán)。若申請人從事產(chǎn)品生產(chǎn)業(yè)務(wù),從侵權(quán)賠償?shù)慕嵌葋砜?,專利申請文件撰寫以抵御產(chǎn)品生產(chǎn)商為主可能對權(quán)利人更加有利。這是因?yàn)榍謾?quán)產(chǎn)品銷售商、進(jìn)口商和使用者一般較容易證明侵權(quán)產(chǎn)品的合法來源。在此情況下,撰寫產(chǎn)品以及產(chǎn)品的制備方法權(quán)利要求較為有利。
    在通信、網(wǎng)絡(luò)、計(jì)算機(jī)領(lǐng)域,申請人面對的侵權(quán)對象可能有多個,希望抵御哪些侵權(quán)對象,是決定其權(quán)利要求的重要因素。針對不同的侵權(quán)對象可以設(shè)計(jì)不同的權(quán)利要求。
    通常來說,若不需要對產(chǎn)品進(jìn)行拆解或消費(fèi)者使用時就可以得知產(chǎn)品的技術(shù)特征是更有利于取證的。如果需要通過反向工程才能確定某一產(chǎn)品是否侵權(quán),則需要考慮反向工程的難度。例如,對于化學(xué)領(lǐng)域相關(guān)專利,可以通過普通測量儀器或技術(shù)進(jìn)行測量的技術(shù)特征更有利于取證。對于半導(dǎo)體、芯片領(lǐng)域相關(guān)專利,若反向工程較容易實(shí)現(xiàn),則可以描述元件及其之間的連接方式;若反向工程較難實(shí)現(xiàn)或成本較高,則有必要考慮是否需要改變撰寫方式。
  6. 第六,應(yīng)當(dāng)考慮布局策略。撰寫專利申請文件時,也應(yīng)重視從屬權(quán)利要求的作用,即在獨(dú)立權(quán)利要求之外,可以將其他具有新穎性和創(chuàng)造性的技術(shù)特征布置到從屬權(quán)利要求中,以阻斷競爭對手的規(guī)避設(shè)計(jì)。
    同時,應(yīng)當(dāng)考慮不同層次的保護(hù)范圍,部分專利申請文件可能會出現(xiàn)某些技術(shù)特征之間不兼容的情況,此時可以考慮構(gòu)建不同保護(hù)范圍的獨(dú)立權(quán)利要求,以避免因修改而放棄部分保護(hù)范圍。另外,在一些情況下,方法權(quán)利要求可以與產(chǎn)品權(quán)利要求的保護(hù)范圍有所區(qū)別,例如方法權(quán)利要求的保護(hù)范圍可以大于產(chǎn)品權(quán)利要求的保護(hù)范圍,以實(shí)現(xiàn)不同層次的保護(hù)。

我國申請人若要在國外進(jìn)行專利布局,在撰寫專利申請文件時需要考慮不同國家的相關(guān)法律規(guī)定。通過《專利合作條約》(PCT)途徑提交國際專利申請時,由于可修改的空間相對有限,尤其需要對優(yōu)先權(quán)文件進(jìn)行嚴(yán)格把關(guān)。

例如,在提交美國專利申請時,應(yīng)避免出現(xiàn)過多對現(xiàn)有技術(shù)的自認(rèn)和討論。因?yàn)?,美國專利商?biāo)局對于“前置基礎(chǔ)(Antecedent Basis)”“專利可實(shí)施性(Enablement)”“書面描述要求(Written Description)”的審查較為嚴(yán)格,在撰寫優(yōu)先權(quán)文件時應(yīng)當(dāng)格外謹(jǐn)慎。

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四、提交材料
  1. 辦理專利申請應(yīng)當(dāng)提交必要的申請文件,并按規(guī)定繳納費(fèi)用。專利申請必須采用書面形式或者電子申請的形式辦理。不能用口頭說明或者提供樣品、照片或模型的方法,來代替書面申請文件。在專利審批程序中只有書面文件才具有法律效力。
  2. 申請發(fā)明專利(或者實(shí)用新型專利)應(yīng)當(dāng)提交說明書摘要、摘要附圖、權(quán)利要求書、說明書、說明書附圖、發(fā)明專利請求書(或者實(shí)用新型專利請求書),在校學(xué)生申請還可提交費(fèi)用減緩備案請求,一次備案后全年專利申請費(fèi)用均可減免申請費(fèi)、實(shí)審費(fèi)、復(fù)審費(fèi)、年費(fèi)。所有文件均為一式兩份
  3. 除專利請求書和費(fèi)用減緩請求書簽名以外,文字部分應(yīng)當(dāng)打字或者印刷,字跡應(yīng)當(dāng)整齊清晰,黑色,符合制版要求,不得涂改,字高在3.5毫米至4.5毫米之間(推薦用宋體或楷體小四號字,1.15倍行距),行距在2.5毫米至3.5毫米之間。紙張應(yīng)當(dāng)縱向使用,只限使用正面,四周應(yīng)當(dāng)留有頁邊距:左側(cè)和頂部各25毫米,右側(cè)和底部各15毫米。應(yīng)當(dāng)在每頁下框線居中位置順序編寫頁碼。
  4. 請求書應(yīng)當(dāng)使用國家公布的中文簡化漢字填寫,表中文字應(yīng)當(dāng)打字或者印刷,字跡為黑色。外國人姓名、名稱、地名無統(tǒng)一譯文時,應(yīng)當(dāng)同時在請求書英文信息表中注明。

 鑒于在產(chǎn)品設(shè)計(jì)方案優(yōu)化和其它文件編寫等工作完成之后,份數(shù)、頁數(shù)及權(quán)利要求項(xiàng)數(shù)才能確定,因此建議請求書最后填寫。

五、專利申請流程圖

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以上就是我整理的專利撰寫的一些要點(diǎn)和步驟

希望大家申請的專利都可以成功地授權(quán)喲~~圖片

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我養(yǎng)的小多肉

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