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成功開發(fā)了SiC單片功率集成電路 - -世界第一! 將SiC縱型MOSFET和SiC CMOS單片集成化-

 Wsz6868 2021-05-30

成功開發(fā)了SiC單片功率集成電路

 - -世界第一! 將SiC縱型MOSFET和SiC CMOS單片集成化-

重點(diǎn)

將SiC立式MOSFET和SiC CMOS集成在一個(gè)芯片上,驗(yàn)證了開關(guān)動(dòng)作 通過(guò)開發(fā)獨(dú)特的器件結(jié)構(gòu),使SiC CMOS的輸出電流增大和與高電壓的絕緣并存 通過(guò)小型輕量化、高性能化、高功能化,期待擴(kuò)大電力轉(zhuǎn)換設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域

概要 國(guó)立研究開發(fā)法人產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所【理事長(zhǎng)石村和彥】(以下稱為“產(chǎn)總研”)先進(jìn)功率電子研究中心【研究中心長(zhǎng)山口浩】功率器件團(tuán)隊(duì)岡本光央主任研究員、原田信介研究小組長(zhǎng)、功率電路集成小組姚惇研究員、佐藤弘研究小組組長(zhǎng), 使用碳化硅( SiC )半導(dǎo)體,在世界上首次實(shí)現(xiàn)了將耐電壓1.2 kV級(jí)的縱型MOSFET和由CMOS構(gòu)成的驅(qū)動(dòng)電路集成在同一芯片上的單片功率IC,確認(rèn)了其開關(guān)動(dòng)作。 雖然SiC單片功率IC能夠?qū)﹄娏D(zhuǎn)換設(shè)備的小型輕量化和損耗降低等做出貢獻(xiàn),但是存在SiC CMOS的輸出大電流化和與高電壓的絕緣并存的困難課題,迄今為止還沒(méi)有實(shí)現(xiàn)。 這次,重新開發(fā)了產(chǎn)綜研獨(dú)自的器件結(jié)構(gòu),在SiC CMOS的高電壓絕緣的基礎(chǔ)上同時(shí)成功實(shí)現(xiàn)了輸出電流的增大。 基于該技術(shù),制作了將CMOS驅(qū)動(dòng)電路與SiC縱型MOSFET集成在同一芯片上的SiC單片功率IC,在世界上首次證實(shí)了開關(guān)工作。 此次開發(fā)的技術(shù)是在SiC傳感器和SiC邏輯電路等的功能集成方面開拓道路的成果,電力轉(zhuǎn)換設(shè)備用途的擴(kuò)大值得期待。 另外,該技術(shù)的詳細(xì)情況將在2021年5月30日~ 6月3日在線舉辦的the 33rd國(guó)際系統(tǒng)電源半導(dǎo)體設(shè)備與ics ( ispsd )上發(fā)表。

図

開發(fā)的SiC單片功率IC的顯微鏡照片及其等效電路

開發(fā)的社會(huì)背景 近年來(lái),全球變暖問(wèn)題越來(lái)越嚴(yán)重,社會(huì)整體的節(jié)能化(削減CO2 )已成為當(dāng)務(wù)之急。 進(jìn)行電力能源轉(zhuǎn)換控制的電力電子技術(shù)是能夠?qū)崿F(xiàn)家電產(chǎn)品和工業(yè)用設(shè)備等的節(jié)能化的關(guān)鍵技術(shù)之一。 為了實(shí)現(xiàn)2050年的碳中和,有必要在各個(gè)地方大量導(dǎo)入應(yīng)用了電力發(fā)電技術(shù)的電力轉(zhuǎn)換設(shè)備。 電力轉(zhuǎn)換設(shè)備的小型輕量化、高性能化、高功能化在擴(kuò)大電力轉(zhuǎn)換設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域、大量引進(jìn)方面很重要,作為其核心的功率設(shè)備的革新不可或缺。 SiC具有比以往作為功率器件材料使用的Si優(yōu)越的物性,能夠以更低的損耗處理大電流·高電壓的SiC立式MOSFET已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了實(shí)用化。 另一方面,關(guān)于SiC單片功率IC,由于制造難度,幾乎沒(méi)有報(bào)道。 特別是,能夠進(jìn)行簡(jiǎn)單的電路構(gòu)成,而且搭載低功耗的CMOS驅(qū)動(dòng)電路的SiC單片功率IC迄今為止還沒(méi)有實(shí)現(xiàn)。 其最大的理由是,被設(shè)計(jì)為即使在高電壓下也不會(huì)損壞的SiC CMOS驅(qū)動(dòng)電路的輸出電流小,難以使SiC縱型MOSFET進(jìn)行開關(guān)動(dòng)作。 研究的經(jīng)過(guò) 產(chǎn)業(yè)綜合研究所推進(jìn)了面向SiC功率器件批量生產(chǎn)的技術(shù)開發(fā)。 迄今為止,作為獨(dú)特結(jié)構(gòu)的SiC功率MOSFET (晶體管),開發(fā)了第一代IE-MOSFET、第二代IE-UMOSFET。 另外,作為有關(guān)作為驅(qū)動(dòng)電路使用的SiC CMOS的研究,還進(jìn)行了制造工藝的要素技術(shù)開發(fā)和特性評(píng)價(jià)。 并且,還對(duì)使用了SiC功率器件的交換技術(shù)進(jìn)行了研究開發(fā)。 此次,凝聚了這些研究成果,開發(fā)了在同一芯片上集成了IE-UMOSFET和SiC CMOS的SiC單片功率IC,證實(shí)了開關(guān)動(dòng)作。 另外,本研究開發(fā)得到了國(guó)立研究開發(fā)法人新能源產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合開發(fā)機(jī)構(gòu)的委托事業(yè)“NEDO先導(dǎo)研究計(jì)劃/能源環(huán)境新技術(shù)先導(dǎo)研究計(jì)劃( 2020~2021年度)”的支援。 研究的內(nèi)容 此次,產(chǎn)業(yè)綜合研究所開發(fā)了將縱型MOSFET和CMOS驅(qū)動(dòng)電路集成在同一芯片上的SiC單片功率IC。 其概念圖如圖1所示。 以往,CMOS驅(qū)動(dòng)電路和縱型MOSFET被分成不同的芯片,其信號(hào)布線通過(guò)金屬線和印刷基板等進(jìn)行。 由于向縱型MOSFET施加高電壓,因此需要與CMOS驅(qū)動(dòng)電路充分的絕緣距離,這是阻礙電力轉(zhuǎn)換設(shè)備小型輕量化的主要原因。 另外,由于信號(hào)布線中存在的寄生電感(意想不到的感應(yīng)成分),開關(guān)動(dòng)作受到不良影響,成為損失增大的原因。 開發(fā)的單片功率IC通過(guò)將縱型MOSFET和CMOS驅(qū)動(dòng)電路集成在同一芯片上,可以使信號(hào)布線長(zhǎng)度最小化,因此可以實(shí)現(xiàn)小型輕量化和降低寄生電感。

図1

圖1開發(fā)的單片功率集成電路技術(shù)的概念圖

開發(fā)的SiC單片功率IC的特征如圖2所示。 如圖2(a )所示,SiC單片功率IC由縱型MOSFET區(qū)域和CMOS驅(qū)動(dòng)電路區(qū)域兩個(gè)區(qū)域構(gòu)成。 縱型MOSFET采用了產(chǎn)業(yè)綜合研究所開發(fā)的IE-UMOSFET。 CMOS驅(qū)動(dòng)電路形成在與IE-UMOSFET共同的p型層上,成功實(shí)現(xiàn)了(1) p型MOSFET輸出電流增大和(2)耐電壓這兩點(diǎn)。 以下記述兩點(diǎn)具體內(nèi)容。 (1) p型MOSFET輸出電流增大:一般來(lái)說(shuō),SiC CMOS的問(wèn)題是p型MOSFET輸出電流比n型MOSFET輸出電流差很多,這阻礙了通過(guò)SiC CMOS驅(qū)動(dòng)電路實(shí)現(xiàn)開關(guān)動(dòng)作。 我們利用IE-UMOSFET的p型層由高結(jié)晶質(zhì)量的外延膜形成的特點(diǎn),幾乎不改變制造工藝就形成了外延嵌入通道。 由此,成功地將p型MOSFET輸出電流增大到4倍(圖2(b ) )。 (2)耐電壓:通過(guò)在與IE-UMOSFET共同的耐電壓結(jié)構(gòu)內(nèi)形成SiC CMOS,不追加新的制造工藝,成功地使CMOS驅(qū)動(dòng)電路與1500 V的漏極電壓絕緣(圖2(c ) )。

図2

圖2此次開發(fā)的SiC單片功率IC的( a )截面示意圖、( b )外延埋入通道的效果、( c )耐電壓特性

制作的SiC單片功率IC的開關(guān)動(dòng)作波形如圖3所示。 在漏極電壓600 V、漏極電流10 A下進(jìn)行了開關(guān)動(dòng)作。 得到了從導(dǎo)通狀態(tài)到截止?fàn)顟B(tài)的開關(guān)動(dòng)作(關(guān)斷)以及從截止?fàn)顟B(tài)到導(dǎo)通狀態(tài)的開關(guān)動(dòng)作(導(dǎo)通)這兩個(gè)波形,在世界上首次證實(shí)了基于SiC單片功率IC的開關(guān)動(dòng)作。

図3

圖3 SiC單片功率IC的開關(guān)動(dòng)作波形 ( a )關(guān)閉波形、( b )打開波形
今后的計(jì)劃 今后,將進(jìn)一步增大SiC CMOS驅(qū)動(dòng)電路的輸出電流,以實(shí)現(xiàn)SiC單片功率IC的高速轉(zhuǎn)換為目標(biāo)。 此外,還集成了傳感器和邏輯電路等,通過(guò)推進(jìn)高功能化,提高了便利性,為擴(kuò)大電力轉(zhuǎn)換設(shè)備的應(yīng)用場(chǎng)所做出了貢獻(xiàn)。
用語(yǔ)說(shuō)明 ◆碳化硅( SiC )半導(dǎo)體 由碳( c )和硅( Si )組成的化合物半導(dǎo)體。 與以往的Si半導(dǎo)體相比,與功率器件特性提高相關(guān)的物性值優(yōu)異。 將SiC用于功率器件時(shí),可以獲得比Si的器件高1個(gè)數(shù)量級(jí)的耐壓,因此有望成為下一代的功率器件用材料。 
 ◆縱型MOSFET MOSFET是指金屬/氧化膜/半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管( metal/oxide/semiconductor field effect transistor )。 通過(guò)控制電極(柵極)的電壓改變內(nèi)部的導(dǎo)通狀態(tài),控制晶體管的輸入電極(源極)和輸出電極(漏極)之間的切換狀態(tài)(內(nèi)部電路的接通斷開的狀態(tài))。 根據(jù)使用的半導(dǎo)體的傳導(dǎo)型,有在正的控制電壓下工作的n型MOSFET和在負(fù)的控制電壓下工作的p型MOSFET兩種。 在SiC功率器件中,一般使用n型MOSFET,源極和柵極電極配置在基板的表面?zhèn)龋O電極配置在基板的背面?zhèn)鹊目v向結(jié)構(gòu)。 
 ◆計(jì)算機(jī)輔助教學(xué) 互補(bǔ)型MOS。 由p型MOSFET和n型MOSFET組合而成的電子電路。 一方處于接通狀態(tài)時(shí),另一方成為斷開狀態(tài),進(jìn)行互補(bǔ)動(dòng)作。 具有功耗低、電路結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單等多種優(yōu)點(diǎn)。 另外,是所有的電極都被配置在基板的表面?zhèn)鹊呐P式結(jié)構(gòu)。 
 ◆驅(qū)動(dòng)電路 用于生成向MOSFET的控制電極(柵極)發(fā)送的信號(hào)的電子電路。 
 ◆單片功率集成電路 將作為主器件的功率器件和驅(qū)動(dòng)電路等外圍電路集成在同一芯片上的集成電路( IC )。 返回參照源 ◆電力轉(zhuǎn)換設(shè)備 利用由半導(dǎo)體晶體管形成的功率器件的開關(guān)(內(nèi)部電路的開關(guān)),負(fù)責(zé)電力轉(zhuǎn)換(直流交流轉(zhuǎn)換和電壓轉(zhuǎn)換)和控制的設(shè)備。 
 ◆ie -移動(dòng) 由被稱為Implantation and Epitaxial MOSFET的產(chǎn)業(yè)綜合研究所開發(fā)的SiC立式MOSFET。 具有在表面上平面地形成由控制電極(柵極)控制開關(guān)狀態(tài)的半導(dǎo)體區(qū)域(溝道)的平面型結(jié)構(gòu)。 通過(guò)在高質(zhì)量結(jié)晶區(qū)域形成溝道,降低了導(dǎo)通狀態(tài)下的電阻。 
 ◆IE-UMOSFET 由被稱為implantation & epitaxial trench MOSFET的產(chǎn)綜研開發(fā)的SiC立式MOSFET。 具有在表面設(shè)置的槽(溝槽)的側(cè)壁形成了由控制電極(柵極)控制開關(guān)狀態(tài)的半導(dǎo)體區(qū)域(溝道)的溝槽型結(jié)構(gòu)。 這是在IE-MOSFET中應(yīng)用溝槽型的結(jié)構(gòu),大幅降低了導(dǎo)通狀態(tài)下的電阻。 
 ◆外延膜 以繼承基底晶體結(jié)構(gòu)的方式進(jìn)行晶體生長(zhǎng)(外延生長(zhǎng))的薄膜。 具有高結(jié)晶性,結(jié)晶缺陷少。 通過(guò)在生長(zhǎng)時(shí)導(dǎo)入雜質(zhì),可以控制n型、p型的傳導(dǎo)型。 
 ◆外延嵌入通道 由MOSFET的控制電極(柵極)控制開關(guān)狀態(tài)的半導(dǎo)體區(qū)域稱為溝道,將使溝道區(qū)域的雜質(zhì)濃度變化的半導(dǎo)體區(qū)域稱為嵌入溝道。 引入該開關(guān)是為了改善開始從截止?fàn)顟B(tài)轉(zhuǎn)換到導(dǎo)通狀態(tài)的控制電壓(閾值柵極電壓)和導(dǎo)通狀態(tài)下的電流的容易流動(dòng)性(溝道遷移率)。 將由外延膜形成的該嵌入通道稱為外延嵌入通道。 由于外延膜的高結(jié)晶性,改善效果較高,但是通常需要追加外延生長(zhǎng),制造工藝負(fù)荷較大。 

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