pvd技術(shù)，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)。且該技術(shù)已經(jīng)普遍應(yīng)用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐等等一系列產(chǎn)品。那么，使用pvd工藝應(yīng)該知道些什么呢？

pvd技術(shù)可提高薄膜與刀具基本材料的結(jié)合強(qiáng)度，受到廣大生產(chǎn)廠家的認(rèn)可。但在生產(chǎn)過(guò)程中，也有很多需要注意的地方，負(fù)責(zé)會(huì)造成不良品，一旦發(fā)生不良，可用ht454pvd退鍍劑進(jìn)行退鍍，降低損耗。但還是建議掌握pvd應(yīng)有的基礎(chǔ)知識(shí)，了解其鍍層的特點(diǎn)、膜層的種類和膜層應(yīng)有厚度等等。否則頻繁使用ht454pvd退鍍劑本身也是一種成本，同時(shí)也浪費(fèi)時(shí)間。

PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)

采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類

PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。

PVD鍍膜膜層的厚度

PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.3μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm ～ 1μm ，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

PVD技術(shù)制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。這些特點(diǎn)使得國(guó)內(nèi)外的制造業(yè)都十分重視，不過(guò)要真正掌握pvd技術(shù)，上述幾點(diǎn)還是不完全的，我們下次再接著討論。